離子濺射儀產(chǎn)品及廠家
jc516-yl2a 陰離子洗滌劑檢測儀適用于大、中、小型水廠及工礦企業(yè)、生活或工業(yè)用水，以便控制水達到規(guī)定的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
更新時間:2025-06-06
小型臺式離子風(fēng)機，具有出眾的除靜電性能，防止靜電污染及破壞。是電子產(chǎn)品生產(chǎn)，維修臺等個人型靜電防護區(qū)域的理想設(shè)備。
更新時間:2025-06-06
總鋅在線監(jiān)測儀是技術(shù)上基于中國標(biāo)準(zhǔn)方法而研制的新一代全自動水中總鋅在線分析儀。經(jīng)過預(yù)處理的水樣由注射泵注入到一個特殊反應(yīng)器中后首先與酸性氧化劑進行反應(yīng)，將水樣中所有形態(tài)的鋅統(tǒng)一氧化成二價鋅離子，接著調(diào)整溶液的ph值，后加入特性顯色劑進行顯色反應(yīng)，在測量范圍內(nèi)，其顏色的改變程度與水樣中的總鋅濃度成正比，通過測量顏色變化的程度，就可以計算出水樣中總鋅的含量。
更新時間:2025-06-06
xf806-rcm-10混凝土氯離子擴散系數(shù)測定儀是我公司自主開發(fā)的檢驗混凝土的長期性耐久性性能的儀器,此儀器完全符合gb/t 50082-2009標(biāo)準(zhǔn)。
更新時間:2025-06-06
總鎳在線監(jiān)測儀是技術(shù)上基于中國標(biāo)準(zhǔn)方法gb11910-89而研制的新一代全自動水中總鎳在線分析儀，該產(chǎn)品是慕迪科技在多年水質(zhì)分析類產(chǎn)品研究基礎(chǔ)上推出的一系列免維護在線監(jiān)測儀。
更新時間:2025-06-06
全自動真空離子濺射儀噴金儀 磁控濺射鍍膜導(dǎo)電處理優(yōu)勢看得見：雙路氣體接入兩種氣體自由接入；全自動手動雙模式，全自動手動雙模式，即可一鍵工作，也可自由設(shè)定；真空腔體加厚，真空腔體加厚可承受更大的真空度；人機界面觸控屏，人機界面觸控屏，方便操作，減少控制失誤。
更新時間:2025-06-06
全自動真空離子濺射儀噴金儀 直流濺射鍍膜導(dǎo)電處理優(yōu)勢看得見：雙路氣體接入兩種氣體自由接入；全自動手動雙模式，全自動手動雙模式，即可一鍵工作，也可自由設(shè)定；真空腔體加厚，真空腔體加厚可承受更大的真空度；人機界面觸控屏，人機界面觸控屏，方便操作，減少控制失誤。
更新時間:2025-06-06
供火力發(fā)電廠、核發(fā)電廠、石油、化工等相關(guān)行業(yè)對其鍋爐給水、蒸汽、凝結(jié)水、水內(nèi)冷發(fā)電機冷卻水和爐水中的鐵離子濃度測定的必備儀表。
更新時間:2025-06-06
大多數(shù)測試條可以在10-120秒內(nèi)完成測試，用戶可以快速獲取結(jié)果。
更新時間:2025-06-06
bx104-215型離子活度計為4 1/2位led數(shù)字顯示，具有定位調(diào)節(jié)、等電位調(diào)節(jié)、溫度補償、斜率校準(zhǔn)等功能。
更新時間:2025-06-06
●供電電源電壓：ac 220v±15%/50hz或ac 110v±15%/60hz； ●工作電流：0.075a max speed； ●風(fēng)量：120cfm； ●離子平衡電壓：≤±5v；
更新時間:2025-06-06
jc503-bfn臺式離子風(fēng)機,專為局部區(qū)域而設(shè)計,具有體積超小,重量輕,安裝使用方便等特點,特別適用細小型空間,具有出眾的除靜電性能,防止靜電污染及破壞.是電子產(chǎn)品生產(chǎn),維修等個人型靜電防護區(qū)域的理想設(shè)備.
更新時間:2025-06-06
產(chǎn)品特點 便攜式設(shè)計，易操作；風(fēng)力大；除靜電除塵迅速
更新時間:2025-06-06
本能地達至0+/-5v離子平衡，免除保養(yǎng)調(diào)整的煩腦，對靜電破壞極敏感的組件，提供好的保護。內(nèi)置專利靜電針清潔擦，簡化保養(yǎng)程序。
更新時間:2025-06-06
離子風(fēng)槍是一種高效的靜電消除裝置，通過高壓氣流將離子發(fā)生裝置所產(chǎn)生的大量正負離子迅速吹向所要除靜電的區(qū)域，中和物體上所積累的靜電電荷，同時高速離子氣流將靜電吸引的塵粒吹除，并阻止其再次吸引塵埃粒子；廣泛適用于電子裝配、徽電子制造、生物制品、制藥、注塑、印刷等行業(yè)。
更新時間:2025-06-06
擁有 4 款轉(zhuǎn)子的新型 24 孔小型離心機 hg220-5424 能滿足每個分子和生物實驗室的需求。
更新時間:2025-06-06
上？祪x離子計pxs-215/離子測定儀pxs-215由上海書培實驗設(shè)備有限公司為您提供，歡迎，www.shupeilab17.com，上海康儀離子計pxs-215/離子測定儀pxs-215介紹：離子
更新時間:2025-06-06
上？祪x離子計pxs-350/離子測定儀pxs-350由上海書培實驗設(shè)備有限公司為您提供，歡迎，www.shupeilab17.com，上？祪x離子計pxs-350/離子測定儀pxs-350產(chǎn)品介紹:
更新時間:2025-06-06
上？祪x離子計pxs-450/離子測定儀pxs-450由上海書培實驗設(shè)備有限公司為您提供，歡迎，www.shupeilab17.com，上？祪x離子計pxs-450/離子測定儀pxs-450產(chǎn)品介紹:
更新時間:2025-06-06
錳離子測試儀適用于大、中、小型水廠及工礦企業(yè)、生活或工業(yè)用水的鉻濃度檢測，以便控制水的錳達到規(guī)定的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
更新時間:2025-06-05
上海到西安物流公司 從上海貨運到西安需要多少錢？貨運公司哪家好?推薦西安物流400-697-cc，兢兢業(yè)業(yè)，風(fēng)雨無阻，公司專業(yè)承接；
更新時間:2025-06-05
儀器儲存了多種常用的離子模式如：h+、ag+、na+、k+、nh4+、cl-、f-、no3-、bf4-、cn-、cu2+、pb2+、ca2+等。測量濃度單位在(0.000～19990)mg/l、mol/l、px相互轉(zhuǎn)換。
更新時間:2025-06-05
q150t es plus高真空離子濺射鍍膜儀裝在一個堅固的特制整體成型機箱中，包括空氣冷卻的70l/s渦輪分子泵。自動進氣控制保證了鍍膜期間最佳的真空條件。
更新時間:2025-06-05
q150r es plus離子濺射/碳蒸發(fā)一體化鍍膜儀適用于給樣品鍍制不氧化金屬膜（即貴金屬膜），標(biāo)配一塊金靶，也可選配金、銀、鉑、鈀、金/鈀合金及鉑/鈀合金等金屬靶；以及為eds樣品鍍制碳膜。（對于易氧化金屬的濺射鍍膜或需鍍制tem碳支持膜，請選購q150t plus系列高真空鍍膜儀）
更新時間:2025-06-05
廣州儀弘it-10固體負離子測試儀it-10采用美國最先進的gm射線離子探測技術(shù)，來測量從天然礦石、陶瓷、電氣石等所產(chǎn)生的微弱放射線能量，通過大量實驗數(shù)據(jù)積累和精密的換算，將放射線能量運用最先進的處理程序換算成負離子數(shù)量，此方法可以得到非常精準(zhǔn)的測量。
更新時間:2025-06-05
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 hv為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡便。采用獨特的插入式設(shè)計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設(shè)備。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設(shè)計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。ccu-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置。
更新時間:2025-06-03
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 lv_ct-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動型的熱蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡便。采用獨特的插入式設(shè)計，可選通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射設(shè)備。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設(shè)計可輕松避免交叉污染。ccu-010系列鍍膜儀標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置。
更新時間:2025-06-03
日立高新磁控濺射器mc1000日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描
更新時間:2025-05-22
金華杰維修 shimadzu turbo pump controllers日本島津ei/fti全系列渦輪分子泵控制器、磁懸浮分子泵控制器，分子泵電源，分子泵驅(qū)動器，經(jīng)驗豐富，檢測設(shè)備齊全，技術(shù)可靠，有多種型號備用分子泵及控制器，分子泵維修配件，二手分子泵（中古泵浦）并免費提供相關(guān)技術(shù)支持。
更新時間:2025-04-29
桌面式濺射儀kt-z1650pvd是一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統(tǒng)。體積小巧，但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶，自動樣品擋板，可調(diào)節(jié)濺射源距離，觸摸屏控制，工藝儲存等功能，方便快捷。
更新時間:2025-04-03
桌面式小型濺射儀kt-z1650pvd磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（pvd）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。
更新時間:2025-04-03
桌面式磁控濺射儀kt-z1650pvd，外形小巧方便移動，觸摸屏控制工藝記憶儲存，自動電動擋板閥保護樣品，石英腔室更加潔凈方便清潔。
更新時間:2025-04-03
自 1995 年以來，sindlhauser materials 一直在為各地的工業(yè)公司提供種類繁多的涂層材料，例如由氧化物和非氧化物陶瓷或結(jié)合稀土金屬制成的濺射靶材，以及金屬和合金。該公司還支持使用等離子技術(shù)為各種產(chǎn)品鍍膜的行業(yè)運營。
更新時間:2025-03-05
卷繞式濺射設(shè)備spw系列spw系列設(shè)備，是可在塑料薄膜上進行光學(xué)膜、金屬膜等多層成膜的卷繞式設(shè)備。實施成膜室間的氣氛分隔，可以使高性能的多層膜一次性成膜。
更新時間:2025-03-05
批次式濺射設(shè)備sv系列sv系列為縱型batch式濺射設(shè)備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設(shè)備。
更新時間:2025-03-05
load-lock式濺射設(shè)備cs-200load-lock式濺射設(shè)備cs-200，是可對應(yīng)從研究開發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。
更新時間:2025-03-05
濺射鍍膜設(shè)備smd系列（立式）smd 系列是鍍金屬膜、ito、igzo、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設(shè)備。僅smd系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各樣的生產(chǎn)環(huán)境下運轉(zhuǎn)。及時反映從生產(chǎn)現(xiàn)場聽取的意見，進一步提高設(shè)備的可靠性。
更新時間:2025-03-05
nsc-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
nsc-3000（m）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
nsc-3000（a）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
nsc-4000（a）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠最大限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品高度：20 mm
更新時間:2024-10-25
jy-s100磁控離子濺射儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌面小型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。
更新時間:2024-09-26
光學(xué)隔振平臺由鋼質(zhì)蜂巢內(nèi)核、頂板及底板組成，在降低重量的提下提供了足夠的硬度。光學(xué)隔振平臺頂板為高導(dǎo)磁性不銹鋼材料，底板為氧化處理碳鋼板，四周側(cè)板內(nèi)層為碳鋼板外層為黑色鋁塑板.
更新時間:2024-04-10
磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控濺射的原理是，在電場內(nèi)在疊加一個磁場，這樣電子在疊加場內(nèi)做螺旋運動，行程很長，每個電子電離的氣體分子比直流多很多很多，所以可以在低電壓下，有較好的真空度。
更新時間:2024-04-10
鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè)，如公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實驗室 及*校，科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)歡迎和信任的品牌之一
更新時間:2024-04-10
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