干燥箱/烘箱產品及廠家
百潔凈烤箱也稱作無塵烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、工裝夾具烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-06-16
箱體結構: 內箱采用sus304/316l不銹鋼制作,以全周氬弧焊無縫處理; 外箱采用優質不銹鋼或冷軋板靜電噴塑處理; 外箱保溫材質用高超細陶瓷纖維保溫,六面保溫斷熱,達到降低機臺表面溫度的目的。
更新時間:2025-06-16
hmds預處理系統(js-hmds90 )將hmds氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-06-16
hmds烘箱、hmds預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。
更新時間:2025-06-16
馬弗爐，高溫電阻爐是分析實驗室樣品干法處理，冶金實驗室做熔融實驗，熱處理部門做退火、淬火等實驗，以及其他需要高溫的場合需要的加熱輔助設備，應用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產的產品，該產品將爐體與控制部分做了整合，大的降低了所占空間面積。
更新時間:2025-06-16
流水線式干燥烘箱，非標隧道烘箱定做是連續式烘干設備，可持續不間斷地烘烤，提高產品生產效率，應用于輕工，電子，食品，化工，木業，機械等行業。
更新時間:2025-06-16
真空無氧烘箱是一種提供高溫、低氧、潔凈環境的特殊制程設備。烘箱內部為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內可充氮、真空，使烘箱工作室內處于低氧、潔凈狀態。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，曲線升溫、恒溫、快速降溫。并附設有超溫斷開加熱、氧含量檢測、輔助降溫裝置及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-06-16
無塵烘箱，無塵固化烤箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過程中堅膜工藝。也用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時間:2025-06-16
晶圓潔凈烘箱，不銹鋼百烤箱定制用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門
更新時間:2025-06-16
半導體百級潔凈烘箱，芯片百級烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-06-16
芯片充氮烘箱，可編程充氮烤箱充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制p.i.d調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。
更新時間:2025-06-16
抽屜烘箱，抽拉層式烘箱用于半導體、電子行業、軌道交通、汽車零部件、航空航天，工礦企業、大專院校、生物制藥、科研、醫療單位及各類實驗室等作非易燃易爆物品及非揮發性物品的干燥、烘培、熔臘、滅菌之用。
更新時間:2025-06-16
pi真空固化烤箱，水冷卻pi固化爐用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi固化，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導體、mems微機電、tft/lcd等半導體相關行業。
更新時間:2025-06-16
led潔凈烘箱，lcd充氮烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內持續充氮，使烘箱工作室內處于潔凈狀態。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全
更新時間:2025-06-16
乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機 vtms蒸鍍機 硅烷偶聯劑氣相沉積系統在材料進行表面改性，形成防水保護層，主要用于半導體、光電、生物新材料等表面處理工藝、機械乳化劑、橡膠粘結劑，化工油墨分散劑等用途。
更新時間:2025-06-16
真空無氧烤箱，無氧化真空烘箱兼容性：2寸-12寸/碎片兼容。低氧濃度：可達20ppm氧氣下實現真空固化。能耗低，真空狀態固化，節約了80%n₂量。無污染，腔體內部所有材料均為316l醫用不銹鋼，無任何顆粒產生。
更新時間:2025-06-16
非標石膏模具烤箱，重型轉盤烤箱定做可滿足精鑄優質的鋅合金模具要求，廣泛應用于汽車輪胎、航天等工業的高品質鋁制品。我們的烘箱的產品，符合國際企業對產品質量和文檔記錄設定的標準。
更新時間:2025-06-16
晶圓精密循環烤箱，硅片循環烘箱是一種高功能、高信賴度烤箱，結構、材質強度、保溫、循環風道等均設計精良，且外形美觀、操作方便。空氣循環系統為水平式循環送風，風源由循環馬達運轉帶動風輪經電熱器，將熱風由風道送至烤箱內部，且將使用后空氣吸入風道成為風源再度循環加熱，如此可得到較佳的溫度均勻性，均勻度可達±1.5％，當門開、關動作引起擾動時，可借此送風循環系統迅速回復操作狀態溫度值。
更新時間:2025-06-16
bcb作為一類高性能聚合物，以它特有的性質，將會被越來越多地使用。bcb是具有優良的熱穩定性、化學穩定性、電絕緣性和機械強度的高性能材料。在現代高技術域有非常重要的應用。例如在微電子制造中，用作各類器件鈍化防護和層間介電等。
更新時間:2025-06-16
芯片高溫燒結箱，500℃高溫烤箱廣泛應用于電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結
更新時間:2025-06-16
無氧烘箱在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板。
更新時間:2025-06-16
真空干燥箱，高溫真空箱定做適用于各種產品或材料及電氣、儀器、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊、塑膠、機械、化工、食品、化學品、五金工具在恒溫環境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。
更新時間:2025-06-16
pi固化高溫烘箱，聚酰亞胺厭氧烤箱用于半導體/三代半導體/新材料/新能源等行業。bcb、pi、cpi、pbo膠固化，lcp新材料、鋰電池等產品熱處理。
更新時間:2025-06-16
hmds涂布機，hmds涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， hmds 涂布的原理，最常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（hmds）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的，而是hmds 改變了 sio2 的界面結構，從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。
更新時間:2025-06-16
高溫高濕試驗箱，芯片老化箱適用于適用于電工、電子、儀器儀表及其它產品、零部件及材料在高低溫交變濕熱環境下貯存、運輸、使用時的適應性試驗； 是各類電子、電工、電器、塑膠等原材料和器件進行耐寒、耐熱、耐濕、耐干性試驗及品管工程的可靠性測試設備； 特別適用于光纖、lcd、晶體、電感、pcb、電池、電腦、手機等產品的耐高溫、耐低溫、耐潮濕循環試驗。
更新時間:2025-06-16
不銹鋼無塵烤箱，雙層無塵烘箱應用于目關鍵的半導體電子行業（如硅片干燥，堅膜烘烤，裝片機后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，雙層無塵烘箱還在led制造行業中用于烘烤玻璃基板、無機材料行業中用于材料高精度工序。
更新時間:2025-06-16
硅片潔凈烘箱，半導體百級潔凈烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-06-16
無塵室烤箱，半導體專用無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；hmds無塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-06-16
精密烘箱，300度精密烘箱具有安全性好，潔凈度高,節能效果優，保溫性佳，溫度均勻性好。大多應用于烘烤光學光纖,精密電子及醫藥器材等欲烘烤物品的烘干或溫升處理等。廣泛使用于pcb、電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、印刷、噴涂、玻璃、陶瓷等的精密烘烤、高溫去應力、老化、烘干、定型、加工等.
更新時間:2025-06-16
hmds烤箱，hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-06-16
真空無氧烘箱，無氧化真空烤箱將高純度氮氣充入烤箱內部，從而置換腔內空氣降低氧濃度，來防止部分物料在高溫環境下加速氧化的現象。烤箱抽取真空后，充入氮氣，再抽取真空，多次循環后可以確？鞠涞墓ぷ魇姨幱跓o氧的狀態，避免活性較強的物料在高溫有氧的環境下被氧化而損壞。
更新時間:2025-06-16
高溫燒結箱，500℃高溫烤箱廣泛應用于電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結。
更新時間:2025-06-16
增粘劑烤箱，hmds烘箱將hmds涂到led、半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-06-16
高溫固化烤箱，百級無塵無氧烤箱主要應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-06-16
非標充氮烘箱，黃光區充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-06-16
高溫真空無氧烤箱，真空無氧化固化爐操作界面：人機界面+plc，可一鍵運行，多個工藝編輯；溫度測量：k型熱偶；控制儀表：高精度溫度控制器，pid調節，控制精度0.1℃，可程式觸摸屏控制器可選擇
更新時間:2025-06-16
硅片充氮烘箱，無氧充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備.適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-06-16
硅箱片無氧烘，半導體厭氧烤箱，在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-06-16
氮氣烤箱，充氮潔凈烤箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-06-16
bcb膠高溫固化烘箱、光刻膠固化烤箱主要應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-06-16
真空無氧烘箱，無氧化真空烤箱將高純度氮氣充入烤箱內部，從而置換腔內空氣降低氧濃度，來防止部分物料在高溫環境下加速氧化的現象。烤箱抽取真空后，充入氮氣，再抽取真空，多次循環后可以確保烤箱的工作室處于無氧的狀態，避免活性較強的物料在高溫有氧的環境下被氧化而損壞。
更新時間:2025-06-16
厭氧烘箱，厭氧固化烘箱用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-06-16
hdms烘箱 hdms真空烘箱 智能型hdms預處理烘箱保護裝置：緊急停止，hmds藥液泄漏報&警提示，hmds低液位報&警，超溫保護，漏電保護，過熱保護等
更新時間:2025-06-16
nh3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統 氨氣圖形反轉爐使得光刻膠在半導體、光學器件及生物芯片等制造領域能夠更地適應圖形轉移的需求，提升產品的制造質量和精度。
更新時間:2025-06-16
hmds 預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds 處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-06-16
半導體烘箱，n2半 導體烤箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、ic封裝、醫藥、實驗室等生產及科研部門。也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗
更新時間:2025-06-16
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